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Synthesis and Characterization of Mesoporous Titania Particles and Thin Films

Junchao TAO , Yue SHEN , Feng GU , Jinzhuan ZHU , Jiancheng ZHANG

材料科学技术(英)

Well-organized mesoporous titania particles and thin films were successfully synthesized by using tetrabutyl titanate as the inorganic precursor and triblock copolymer (Pluronic P123) as the template via evaporationinduced self-assembly process. The resulting materials were characterized by high resolution transmission electron microscopy (HRTEM), X-ray diffraction (XRD). Fourier-transform infrared spectroscopy (FT-IR), Brunauer-Emmett-Teller (BET) and atomic force microscopy (AFM). Macro shape of mesoporous titania would greatly influence the mesostructure of materials, and the probable reasons were also discussed.

关键词: mesoporous titania , null , null , null , null , null , null

Eu掺杂ZnO薄膜与Si(100)衬底间扩散过程分析

朱满康 , 陈健 , 侯育冬 , 严辉

稀有金属材料与工程

利用雾化热解工艺,在Si(100)衬底上制备了Eu掺杂的ZnO薄膜,通过N2的作用,将前驱体溶液输送到衬底表面,同时为实现ZnO的晶化,衬底温度保持在350℃.通过RBS分析了薄膜和衬底之间的原子分布,结果显示了ZnO薄膜与Si衬底之间存在过渡层.对RBS数据的分析表明该过渡层的形成是由于Si向ZnO层中的扩散,表明Si向氧化物中的扩散是不能忽略的,即使在350℃的低温下.同时,作者利用Fick扩散方程对Si向Eu3+掺杂ZnO薄膜的扩散行为进行了分析,结果表明掺杂离子Eu3+具有阻止Si扩散的能力,其原因可能与Eu3+离子在晶界上的偏析有关.

关键词: ZnO , 薄膜 , Si , 界面扩散

脉冲激光沉积方法生长硅基ZnO薄膜的特性

何建廷 , 庄惠照 , 薛成山 , 田德恒 , 吴玉新 , 刘亦安 , 胡丽君 , 薛守斌

功能材料

用脉冲激光沉积法(PLD)在n型硅(111)平面上生长ZnO薄膜.X射线衍射(XRD)在2θ=34°处出现了唯一的衍射峰,半高宽为0.75°;傅里叶红外吸收(FTIR)在414.92cm-1附近出现了对应Zn-O键的红外光谱的特征吸收峰;光致发光(PL)测量发现了位于370和460nm处的室温光致发光峰;扫描电子显微镜(SEM)和选区电子衍射(SAED)显示了薄膜的表面形貌以及晶格结构.利用PLD法制备了具有c轴取向高度一致的六方纤锌矿结构ZnO薄膜.

关键词: PLD , ZnO , 薄膜 , 六方纤锌矿结构

柠檬酸钠的浓度对电沉积制备Cu(In, Ga)Se2薄膜的影响

夏冬林 , 赵修建 , 李建庄

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.04.029

本文详细介绍了电沉积制备Cu(In,Ga)Se2(CIGS)薄膜的原理.电解液由CuCl2,InCl3,GaCl3和柠檬酸钠溶液组成.溶流组成通过改变柠檬酸钠的浓度,铟和镓的沉积电位接近或等于铜和硒的沉积电位.Cu(In,Ga)Se2薄膜的性能研究分别采用扫描电镜自带能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)和扫描电镜分析Cu(In,Ga)Se2薄膜的化学组成、晶体结构和表面形貌.结果表明当柠檬酸钠浓度为1.0M时,所制备的Cu(In,Ga)Se2薄膜为单一的黄铜矿结构,晶粒大小均匀.

关键词: Cu(In,Ga)Se2 , 薄膜 , 电沉积 , 柠檬酸钠 , 太阳能电池

钒掺杂二氧化钛薄膜制备与材料特性分析

刘欢 , 龚树萍 , 刘剑桥 , 万久晓 , 周东祥

功能材料

以钛酸四丁酯和乙酰丙酮钒(Ⅲ)为主要原料,采用溶胶-凝胶法制备了钒掺杂二氧化钛薄膜,利用XRD、紫外-可见吸收光谱、FT-IR及XPS等表征手段,将其与未掺杂二氧化钛薄膜进行了材料特性对比研究。结果表明两种薄膜均为锐钛矿结构,引入钒后二氧化钛的禁带宽度由3.28eV减小至3.15eV,吸收带边红移至可见光范围;XPS分析证实制备的钒掺杂二氧化钛薄膜中钒以四价和五价两种氧化价态存在,可能在二氧化钛禁带中引入较深的杂质能级而引起价带顶向禁带拓展,从而产生引起禁带宽度变窄效应,扩展了二氧化钛带边光吸收。理论分析还表明,钒掺杂引起的深能级杂质在二氧化钛晶界处易于形成有效的陷阱俘获光生空穴,从而抑制光生载流子的复合,尤其适于用作光催化材料。

关键词: 二氧化钛 , 钒掺杂 , 薄膜 , 吸收

镁合金表面磁控溅射DLC/SiC薄膜的纳米压痕与摩擦磨损性能

许晓静 , 夏登福 , 卓刘成 , 郝欣妮 , 宗亮

稀有金属材料与工程

采用室温磁控溅射技术在镁合金(AZ91D)表面制备出DLC/SiC(类金刚石/碳化硅)双层薄膜(SiC为中间层),研究了薄膜的纳米压痕行为、膜基黏附力和膜基系统的摩擦磨损性能.结果表明:DLC薄膜具有低的纳米硬度(3.05 GPa)、低的弹性模量(24.67 GPa)和高的硬弹比(0.122);膜基系统具有高的界面黏附力和好的摩擦磨损性能;在以氮化硅球为对摩件的室温干摩擦条件下其磨损速率在10~(-6)mm~3·m~(-1)·N~(-1)级,摩擦系数约为0.175.分析表明:膜基系统具有的良好抗磨性能与其薄膜具有高的塑性和硬弹比、膜基系统具有好的弹性模量匹配是相一致的;DLC薄膜具有的不寻常力学行为(很低的硬度和弹性模量等)与其基材是镁有关.

关键词: 镁基材 , 薄膜 , 纳米压痕 , 摩擦磨损 , 磁控溅射

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